三靶射频磁控溅射镀膜仪--VTC-3RF （2019.5.27--科晶实验室审核）

1、多种配件可选提示   2、特殊设备尺寸设备    3、科晶实验室邀请提示    4、配件妥善保管提示

·标配的石英腔体（也可选配金属腔体）方便观察（图1）

·相比传统溅射仪，体积小巧，拆装方便（图2）

·模块化设计，靶头，电源等多种可选，自由DIY（图3）

·基台可旋转可加热

·可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了 氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

            图一                           图二                                图三       

1、输入电源：220V AC50/60Hz

2、设备功率：<1500W

3、靶台加热温度：500℃

4、样品台转速：0-10r/min

5、靶头可调倾角：0-25度

6、溅射腔体尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。 

7、靶材尺寸要求：1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度）

           2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度)

8、最高使用功率：1英寸磁控溅射靶头100W

           2英寸磁控溅射靶头300W

更多参数请联系科晶销售部

·设备配备三个直流射频通用靶头，1英寸2英寸尺寸可选。

·仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台，最高加热温度是500℃（图1）

·配有300W自动匹配射频电源和500W的直流溅射电源（可自由选择）（图2）

·设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶（图3）

·配有靶头电动升降台（图4）

·配有高纯石英密封罩（图5）

           图一                   图二                     图三                     图四                图五

700mm L x 770 mm W x 1900 mm H

净重：80 kg（不包括泵）

CE认证

一年保修，终身技术支持。
特别提示：

   1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。

   2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内 

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