北京壮仕科技有限公司
PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEM &TEM,紫外对聚合物改性等。
紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物
PCE-22是一款可加热型的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEM &TEM,紫外对聚合物改性等。
紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm。其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物
设备名称 |
加热型紫外臭氧清洗机-PCE-22 (2019.11.4-科晶实验室审核)
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产品提示 |
1、多种配件可选提示 2、特殊设备尺寸设备 3、科晶实验室邀请提示 4、配件妥善保管提示
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设备特点 |
·仅室内使用; 海拔高度5500英尺以内; ·温度范围:5-40℃; ·最大相对湿度80%,最高30.5℃,40℃线性降至50%相对湿度; ·主电源波动不超过额定电压的10%; ·污染等级2; 臭氧水平(环境)测量<45 ppb。 ·去除分子级别的污染物 ·紫外光固化粘合剂 ·紫外光催化 ·氧化PDMS ·表面消毒 ·刻蚀 ·清洗MEMS 器件 ·清洗各种基片,如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片
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基本参数 |
·功率:最大350W ·AC 208~240V,单相 50/60Hz
更多参数请联系科晶销售部 |
机体结构 |
腔体&样品台:·不锈钢壳体 ·抽屉式样品台,以便放样取样,如图一。 ·样品台面积310 mm x 320 mm ·臭氧通风装置安装在腔体上 ·样品台与紫外灯的距离:20mm -40mm(可调),如图二。 ·样品台可以加热,最高温度可达150℃,如图三。 ·可设置20段升降温程序,控温精度为+/-1℃ ·设备运行时间:0.01 秒- 99.9小时,如图四。
图一 图二 图三 图四
排气口:·直径为80mm的排气口安装在仪器后端 ·请将橡胶管与排气口连接,将臭氧排出到实验室外 ·仪器中不包含橡胶管
紫外灯:·可发出双波长的水银灯 ·功率:55W ·发出光的波长:254 nm 和 185 nm ·使用寿命:2500 小时(可更换) ·照射区域:200 x 200 mm ·可以清洁直径最大为12英寸x 35毫米的晶体晶片。
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外形尺寸 |
·510mm x 350mm x 400mm (W x H x D)
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净重 |
28kg
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认证 |
所有电器元件(>24V)都通过UL/MET/CSA/CE认证,若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。
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质保期 |
一年保修,终身技术支持。 特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 |
北京壮仕科技有限公司 域名: jointec17.com
13911282924@163.com
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